崛场 HORIBA 氢氟酸浓度计 CM-200210

氢氟酸浓度计 CM-200/210
实时显示半导体制造工艺中的氢氟酸浓度
概要
为监测半导体制造工艺中氢氟酸浓度而开发出来的高精度氢氟酸浓度计。该设备通过采用电磁感应导电率计测量并实时显示氢氟酸浓度。广泛适用于各个使用氢氟酸的制造工艺，例如：清洗蚀刻后的晶片。
特点
实时显示氢氟酸浓度
可以通过导电率传感器检测氢氟酸浓度，通过<导电率>-<氟酸浓度>的检量线，自动地实时显示氟酸浓度。

实现了半导体制造工艺中低浓度范围的高精度
产品几乎覆盖了半导体制造工艺中所使用的氢氟酸溶液的全部量程(0-1/2/5/10/20wt%)。即使在0-1wt%的低浓度量程中，也实现了±2%F.S.以内的再现精度。适合于要求低浓度范围控制的存储器生产线中发挥出威力。

确保稳定检测的传感器
沉浸型传感器已经完全被PFA树脂模块化，所以不会因氢氟酸溶液而发生金属腐蚀现象。并且，金属等不纯物不会溶入到样品溶液中，因此可以对其进行稳定的检测。

装有报警功能
为了实现更加可靠的工艺管理，分别具有浓度输出以及浓度上限¿浓度上上限¿浓度下限¿浓度下下限的报警输出功能。

可以用于多用途
采用小巧的DIN96尺寸的转换器。小型¿轻便，最适于组装到氟酸的稀释装置、供给装置、晶片的清洗装置中。并且，具有直接浸没到液体中的沉浸型传感器(CM-200)和设置在工艺配管中的流通形传感器(CM-210)。您可以根据用途自由选择

氢氟酸浓度计
CM-200/210



规格
测量原理 电磁感应导电率检测方式 检测对象 水+氢氟酸溶液 量程 0¿1/2/5/10/20HFwt%(请您在订货时指定) 再现性 ±2% F.S 响应时间 90%响应5秒以内(恒温条件下) 样品条件 温度：25±3℃
压力：沉浸型0¿0.02MPa、流通型0¿0.1MPa 显示 氢氟酸浓度:最小显示值0.001%(在0-1%量程中)
报警: 浓度上限、上上限、下限、下下限







外形尺寸图






氢氟酸浓度计
CM-200/210



测量原理


2个环状螺线管(T1是通过交流电的励磁变压器、T2是检测变压器)被模块化于传感器的塑料外壳内部。当传感器沉浸在溶液中时，溶液将在2个环状螺线管之间产生一个闭合回路。如果环状螺线管T1的线圈中通过一恒定的交流电流，则会在磁圈中产生一恒定的磁场，依照样品的导电率电流i流过样品溶液。根据电流i环状螺线管T2中将会产生相应的磁场，并且在T2的线圈中将会产生感应电动势。由于感应电动势e(电压)与样品的电导率呈比例关系，通过测量e可得知电导率值。这样经过检测的导电率和氢氟酸浓度存在极高的关联性，可以根据预已知的参考曲线计算得出并显示氢氟酸浓度。



氢氟酸浓度计
CM-200/210



在WET STATION中安装HF传感器示例