光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2
概要
PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35µm。并且通过线＆空间1.0¿1.5µm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。
特点
0.35µm的检测灵敏度，90%的检测率。
操作灵活的菜单便于使用。
最多可直接从多级分类器内的光掩模盒中装载10片光掩模。
可直接观察玻璃(Glass)面和图案(Pattern)面。
便利的数据管理便于制做报告。
新信号处理方式有利于减少检测错误。
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
规格 测量原理
偏振激光散射方式
监测对象
带表膜(Pellicle)或者没有表膜的光掩模
检测器
光电子倍增器
光源
氩激光488 nm, 10 mW
可测最小粒径
图案(Pattern)面：0.35µm
玻璃(Glass)面：5.0µm
表膜(Pellicle)面：10.0µm
检测率
0.35µm微粒子 标准模式：90% 5-监测整合模式：93%以上)
检测范围
5英寸：最大 105x110
6英寸：最大 127x139 mm
7英寸：最大 160x160 mm
带有表膜的时候：自表膜边框内侧开始4mm以内
装置重量
约1000Kg
装置外寸
1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm
*最大宽度包括状态指示灯和输送管道
电源容量
AC200/220/230/240±10V、4 KVA 50/60Hz
外形尺寸图
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
使用环境
图案表面上的污染物的最小可测粒径为0.35µm。
通过光掩模宽度1.5µm、线间1.5µm的图案判别功能，可以把检测误差抑制在最小限度内。
应用
在下列工艺中，可以用于细微异物的检测中。
光掩模制造工艺
1)光掩模坯件上的异物检测
2)EB中描画¿清洗后的图案/玻璃面的异物检测
3)表膜粘贴后的图案/玻璃/表膜各面的异物检测
4)粘贴前表膜单体的异物检测(可选件功能)
曝光工艺
1)光掩模的接收检査(入库检查)
2)曝光前的光掩模例行程序的异物检测(工艺管理)
3)光掩模的定期异物检测(工艺管理)
优点
在图案面，0.35µm的异物检测灵敏度
高速过量地检测图案/玻璃/表膜各面
带有上下面异物观察功能(观察倍率多级切换)
可应用于各种缩小投影型曝光装置盒(适用于多级曝光装置盒：最大可达到10级)
各种各样的检査条件设定功能和简便的检测操作
内置数据管理功能，可以输出各种各样的报告。
支持GEM通信功能(顾客要求的功能 可选件)
高可靠性、低运营成本
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
技术资料
适用于300mm 和LSI系统制造，在提高产能方面能发挥很大威力的光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
本装置可以高灵敏度地检测曝光用光掩模上的异物，可以高精度地确定其位置，以图像形式显示出来。本装置由于采用氩激光散射方式，所以能够以90%以上检测率检测最小0.35µm粒径的异物。并且，还完善了可适用于各种掩模盒的多级分类器以及各种通信功能等，是可以适用于所有半导体制造线的构成产品。
测量原理
在本装置中，以激光散乱光方式作为异物的检测原理。激光光如果照射到异物上，就会发生散乱，通过对这种散乱强度进行检测，就可以检测出异物。利用电流镜对整个检査面扫描激光光，检测散乱光的强度。激光光也可随着标线片以及掩模上的图案而发生散乱，但是在异物和图案中，散乱光的偏光特性不一样，所以可在光学系统中插入偏光元件，对二者进行辨别。
此外，我们注意到在异物和图案中信号存在差别，利用独自开发出来的低频滤光器提高了辨别效率。而且，由于光的波长越短则散乱强度将会越强，所以在本装置中，采用了氩激光(488nm)，以谋求实现高灵敏度化。通过这些革新技术改良，以前由于会导致误测而被视作困难的相移掩模(半色调掩模)以及OPC掩模的异物检査也成为了可能。
优点
■可检测0.35µm的异物
由于采用了激光散射方式和氩激光，可检测最小0.35µm的异物。
■高的稳定性
在一定周期内通过参考检测对光源的变动影响进行补偿，可以长时间进行稳定的检测。
■高的辨别率
通过低通滤光器，大幅地提高异物/图案的辨别率，也可以检查相移掩模(半色调掩模)、OPC 掩模等。
■多级分类器的应对
具有可以适用于各种掩模盒的构造，最大可以应对10级的多级分类器。
■通信功能的完善
通信系统采用MicrosoftWindowsNT，提高操作性的同时，主机通信支持SECS和GEM。
■当场观察
可以通过显微镜对异物进行光学观察，当场察看异物性状。
低通滤光器识别原理
(a)源信号 (b)低通滤光器特性 (c)差分输出
低通滤光器的效果
＜测试图案＞ (a) (b) (c)
＜输出信号＞ (a) (b) (c)
主要规格 检査对象
有(无)表膜光掩模(reticle/mask)
基板尺寸
5、6、7英寸(9英寸为可选件)、厚度：2.3¿6.3mm
检测能力
图案面0.35µm(检测率90%以上)
玻璃面5.0µm(检测率90%以上)
表膜面10.0µm(检测率90%以上)
检査时间
约13分钟(4面检査)
显微镜观察
图案面(约220倍、约440倍、约1100倍可切换)
玻璃面(约440倍固定)
外形尺寸
1710mm (W)×1260mm(D)×1540mm(H)
设置面积
2710mm(W)×2195mm(D)
Reticle的4面检査结果
(PR-pd2 (美国市场)堀场制作所 半导体系统企划开发部)
(PR-PD2 (日本市场)日立制作所电子设备制造系统推进总部装置第一部)
概要
PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern Surface)上的最小粒径为0.35µm。并且通过线＆空间1.0¿1.5µm的图案识别功能，可以把检测误差抑制在最低限度。
特点
0.35µm的检测灵敏度，90%的检测率。
操作灵活的菜单便于使用。
最多可直接从多级分类器内的光掩模盒中装载10片光掩模。
可直接观察玻璃(Glass)面和图案(Pattern)面。
便利的数据管理便于制做报告。
新信号处理方式有利于减少检测错误。
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
规格 测量原理
偏振激光散射方式
监测对象
带表膜(Pellicle)或者没有表膜的光掩模
检测器
光电子倍增器
光源
氩激光488 nm, 10 mW
可测最小粒径
图案(Pattern)面：0.35µm
玻璃(Glass)面：5.0µm
表膜(Pellicle)面：10.0µm
检测率
0.35µm微粒子 标准模式：90% 5-监测整合模式：93%以上)
检测范围
5英寸：最大 105x110
6英寸：最大 127x139 mm
7英寸：最大 160x160 mm
带有表膜的时候：自表膜边框内侧开始4mm以内
装置重量
约1000Kg
装置外寸
1710 (W) x 1540 (H) x 1400* (D) mm
*最大宽度包括状态指示灯和输送管道
电源容量
AC200/220/230/240±10V、4 KVA 50/60Hz
外形尺寸图
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
使用环境
图案表面上的污染物的最小可测粒径为0.35µm。
通过光掩模宽度1.5µm、线间1.5µm的图案判别功能，可以把检测误差抑制在最小限度内。
应用
在下列工艺中，可以用于细微异物的检测中。
光掩模制造工艺
1)光掩模坯件上的异物检测
2)EB中描画¿清洗后的图案/玻璃面的异物检测
3)表膜粘贴后的图案/玻璃/表膜各面的异物检测
4)粘贴前表膜单体的异物检测(可选件功能)
曝光工艺
1)光掩模的接收检査(入库检查)
2)曝光前的光掩模例行程序的异物检测(工艺管理)
3)光掩模的定期异物检测(工艺管理)
优点
在图案面，0.35µm的异物检测灵敏度
高速过量地检测图案/玻璃/表膜各面
带有上下面异物观察功能(观察倍率多级切换)
可应用于各种缩小投影型曝光装置盒(适用于多级曝光装置盒：最大可达到10级)
各种各样的检査条件设定功能和简便的检测操作
内置数据管理功能，可以输出各种各样的报告。
支持GEM通信功能(顾客要求的功能 可选件)
高可靠性、低运营成本
光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
PR-PD2
技术资料
适用于300mm 和LSI系统制造，在提高产能方面能发挥很大威力的光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统
本装置可以高灵敏度地检测曝光用光掩模上的异物，可以高精度地确定其位置，以图像形式显示出来。本装置由于采用氩激光散射方式，所以能够以90%以上检测率检测最小0.35µm粒径的异物。并且，还完善了可适用于各种掩模盒的多级分类器以及各种通信功能等，是可以适用于所有半导体制造线的构成产品。
测量原理
在本装置中，以激光散乱光方式作为异物的检测原理。激光光如果照射到异物上，就会发生散乱，通过对这种散乱强度进行检测，就可以检测出异物。利用电流镜对整个检査面扫描激光光，检测散乱光的强度。激光光也可随着标线片以及掩模上的图案而发生散乱，但是在异物和图案中，散乱光的偏光特性不一样，所以可在光学系统中插入偏光元件，对二者进行辨别。
此外，我们注意到在异物和图案中信号存在差别，利用独自开发出来的低频滤光器提高了辨别效率。而且，由于光的波长越短则散乱强度将会越强，所以在本装置中，采用了氩激光(488nm)，以谋求实现高灵敏度化。通过这些革新技术改良，以前由于会导致误测而被视作困难的相移掩模(半色调掩模)以及OPC掩模的异物检査也成为了可能。
优点
■可检测0.35µm的异物
由于采用了激光散射方式和氩激光，可检测最小0.35µm的异物。
■高的稳定性
在一定周期内通过参考检测对光源的变动影响进行补偿，可以长时间进行稳定的检测。
■高的辨别率
通过低通滤光器，大幅地提高异物/图案的辨别率，也可以检查相移掩模(半色调掩模)、OPC 掩模等。
■多级分类器的应对
具有可以适用于各种掩模盒的构造，最大可以应对10级的多级分类器。
■通信功能的完善
通信系统采用MicrosoftWindowsNT，提高操作性的同时，主机通信支持SECS和GEM。
■当场观察
可以通过显微镜对异物进行光学观察，当场察看异物性状。
低通滤光器识别原理
(a)源信号 (b)低通滤光器特性 (c)差分输出
低通滤光器的效果
＜测试图案＞ (a) (b) (c)
＜输出信号＞ (a) (b) (c)
主要规格 检査对象
有(无)表膜光掩模(reticle/mask)
基板尺寸
5、6、7英寸(9英寸为可选件)、厚度：2.3¿6.3mm
检测能力
图案面0.35µm(检测率90%以上)
玻璃面5.0µm(检测率90%以上)
表膜面10.0µm(检测率90%以上)
检査时间
约13分钟(4面检査)
显微镜观察
图案面(约220倍、约440倍、约1100倍可切换)
玻璃面(约440倍固定)
外形尺寸
1710mm (W)×1260mm(D)×1540mm(H)
设置面积
2710mm(W)×2195mm(D)
Reticle的4面检査结果
(PR-pd2 (美国市场)堀场制作所 半导体系统企划开发部)
(PR-PD2 (日本市场)日立制作所电子设备制造系统推进总部装置第一部)
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